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第一百四十四章 新工艺半导体硅片,测试合格!

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  在有材料与设备,以及冯承铭这位光刻院士的主导下,芯片光刻过程异常迅速。

五片国产硅片光刻前,需要经历清洗步骤,去除表面的灰尘、污染物与残留物。

具体做法是先用湿法清洗一遍,再用去离子水清洗,最后再用六甲基二硅胺烷气体熏蒸,使硅片表面完全脱水。

只有经过两道清洗步骤,一道熏蒸步骤,才能让半导体硅片达到它本身的11N纯净度,这也是光刻前的关键。

别看操作的都是学生,有时候学生更能严谨操作。

更别提有冯承铭监工,他们可根本不敢有半点偷懒。

在熏蒸结束以后,五块半导体硅片被放入传送机器,送往光刻机内部光刻区域。

冯承铭也早早换好了第一块光掩膜版,随着设备的启动,涂胶设备开始自动为硅片涂胶,并进行边缘胶体修正。

芯片生产步骤大致分为,清洗、涂胶、烘烤、光刻曝光、PEB后烘烤,图形溶解等。

因为要使用“多重曝光技术”,生产步骤还要重复一遍,繁琐程度大大提升。

不过!

冯承铭也算是熟手了,生产步骤根本难不倒他。

再怎么说,他也是跟红色品质光刻人才林天学过的,算得上是“亲传弟子”。

一个半小时后,五块12寸半导体硅片已经全部刻满电路图案,等待切片封装。

使用专业设备分割切片后,一位负责芯片检测的学生立马使用检测仪器测试。

片刻后。

他神色一变,连忙来到冯承铭面前道:“老师,这些半导体硅片似乎有点不对劲!”

“什么?”

冯承铭瞪大了眼。

他没有管被吓到的学生,而是火急火燎地来到测试设备查看具体数值,顿时整个人愣住了三秒,不可思议道:

“天啊!同样的生产步骤,为什么轻舟芯片的功耗会下降,性能却提升了,陈星,你究竟对半导体硅片做了什么改良!”

没想到!

所有人都没预料到!

这五片11N纯净度,12寸半导体硅片有这等效果,这是颠覆他们认知的新型技术。

丝毫不夸张的说,这件事要是传出去,芯片生产领域的博主完全可以用这个当做论文主题,顺利完成论文答辩。

史无前例!

遥遥领先!

冯承铭深呼吸一口气,目光看向周围的几个


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